六十三 架构的优势(第2/2页)
其实从一百三十纳米，一直到14纳米左右，使用的光刻机都是浸润式duv光刻机，都是使用深紫外193纳米准分子激光光源，也就是说这条线，有着改进到14纳米的潜力。
不过真的要改进到14纳米，不仅光刻机得大改，就连生产线都要重新设置。
尽管暂时杨青也没有心情，也没有动力，进行这么大的改进，不过光是光刻机的操作系统，由小嫒全权接管，就已经使得生产线的工作效率和光刻精度提升了几倍不止。
因为小嫒的资料，来自的都是那些代工大厂，7纳米，甚至5纳米的量产经验，早已经超越了这台老爷机不知道多少年。