第205章 国产DUV深紫外光源光刻机试生产成功(第4/4页)
进入了两百五十纳米。
加工工艺也从投影式突破到了扫描式，加工速度大幅提升。
虽然看似只是光源上的突破，但对华夏国的光刻机产业来说，却是一个巨大的突破。
华夏国现在拥有了深紫外光源的扫描式光刻机。
实际的技术已经接近国际最顶级的水平了。
苏翰当然是非常的高兴。
他的离轴同轴双工作台设计终于可以大展拳脚了。
不过再次之间他要率先完成五轴数控加工中心。
毕竟光刻机的工作台要求加工精度非常的高，需要一个牛逼一点的机床才行。
龙翰车床正在试生产五轴数控机床。
五轴机床试产完成以后就可以挑战双工作台和离轴同轴加工工艺了。
……
翰林院这边已经完成了250纳米新型芯片的设计。
苏翰名下的光刻胶企业也完成了arf光刻胶的研发（苏翰这个时候已经有了化学材料工程的所有技术，所有光刻胶的制造方法，他已经全都掌握了。现在只是差光刻机而已，只要是芯片的生产材料, 他都可以在短时间内达到国际先进水平。）。
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