第452章：光刻机(第1/5页)
想要进入研究院的车间。
那复杂程度不亚于西天取经。
防护服得穿上。
然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。
在经过紫外线照射等等环节。
从准备到进入，差不多要花上一个多小时。
没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。
光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。
再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。
如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。
光在哪里传播呢？自然是空气。
这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。
哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。
现在91年，光刻机的精密度还没有那么高。
这台从阿斯麦过来的机器，还远远没有达到后世的7纳米，甚至5纳米。
所以，对车间的要求在当下看起来是非常高，但自己人还是能搞一搞。
等到后世就坏菜了。
光刻机的精密度提高，对环境的要求更加苛刻和变态。
在国际上通用标准来说，手术室的要求的环境是iso5级。
这也是常人能接触到最干净的环境了。
但是，芯片生产因为特别精细。
极其微小的杂质都会影响产品的质量。
所以，在后世，生产芯片的车间竟然要求iso1级或者iso2级的最高水平！
也就是每立方米的空气中，超过0.1um大小的杂质，不能超过100粒。
这是什么概念？
打个比方说：如果西湖里面装满纯净水，你往里面撒一把盐，它就不合格了！
很是恐怖的要求！
简直让人无法想象，这么高要求，你靠人工打扫肯定是不行的。
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